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手术室净化不单单是表面的净化,还是在我们几乎忽略的细节也是需要我们注意,不会忽略任何的地方。下面就由舜盈防护为大家讲一讲手术室净化需要注意的细节吧。
1 净化手术室净化空调设备组成 净化空调系统主要由空气处理器,初、中、高1效过滤器,加压风机,医用手术室净化,回风口及送风口等组成。
2净化手术室的建筑要求 密闭性要求高,医院手术室净化设备,一般为封闭式无菌手术间。室内必需的设备如壁柜、观片灯、写字台、电源插座盘、传呼系统、送风口、回风口等设在夹墙内,表面平整,不积灰尘。手术室的内装修必须有利于洁净环境,一定要满足不产生和不吸附尘埃,耐久、耐磨、耐药物,洁净手术室净化工程,并要易于擦拭消毒的要求。
净化工程需要根据行业的精密与无尘要求,长春手术室净化,等级差别也较大,净化工程是一个非常细致的过程,要关注到方方面面,下面就由舜盈防护来简单讲一讲洁净室中的温湿度控制吧。
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜**过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度**过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产樶佳湿度范围为35—45%。