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光刻机 

光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，张家港直手臂，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

性能指标

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，直手臂公司，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

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        光刻机的匹配调整是-项非常复杂的工作，在进行调整时，以下几点准则应当遵循：

●匹配使用的光刻机，**应该是各单台光刻机调整到设备本身的较.佳状态，直手臂，各项技术指标**在设备规定的范围之内。

●设备进行匹配调整时，凡是能通过软件修正量的改变能实现的尽量使用软件方式来调整，因为软件调整是可改变的，可恢复的。而机器硬件调整的可恢复性比较差，特别是有严格精度要求的，基本上没有硬件调整的余地。

     晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的**企业。

市场份额

目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：ASML， 尼康(Nikon)，直手臂，佳能(Canon)。 根据2007年的统计数据，在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的市场份额。

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