常州光刻机|晋宇达|光刻机

传统光刻机的演变和所面临的挑战

      光刻机是诸多现代技术高度集成的产物， 这些技术是：物理学，光学，深圳光刻机，化学，材料科学，精密机械，精密控制，工程学等等。在过往的20几年中，光刻机作为半导体制造业的重要设备，经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和DRAM特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为：分辨率=K1λ/NA所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2－8]：大NA非球面镜光学系统，光刻机，短波长光源，分辨率增强技术（降低K1因子），同步扫描工件台等。

      高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，无锡光刻机，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上较精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国**。

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