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传统光刻机的演变和所面临的挑战

      光刻机是诸多现代技术高度集成的产物， 这些技术是：物理学，光学，步进光刻机，化学，材料科学，精密机械，精密控制，工程学等等。在过往的20几年中，步进光刻机，光刻机作为半导体制造业的重要设备，经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和DRAM特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为：分辨率=K1λ/NA所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2－8]：大NA非球面镜光学系统，短波长光源，分辨率增强技术（降低K1因子），常州步进光刻机，同步扫描工件台等。

      晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的**企业。

      随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度已经达到数千至数亿晶体管，推动着芯片封装技术向更高密度、更**发展，使基于凸点工艺的封装成为主流技术，绍兴步进光刻机，对封装光刻机的性能也大幅提高，传统的接近/接触式光刻机已不能满足**、高密度、低成本等先进封装工艺发展需求，先进的大视场、大焦深、**投影光刻机成为先进封装生产线的关键设备。

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