晋宇达 图 |北京去胶机|去胶机

     晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的**企业。

光刻机紫外光源曝光系统较核心的部件之一是紫外光源。常见光源分为:紫外光（UV），g线：436nm;i线：365nm深紫外光（DUV），沈阳去胶机，KrF 准分子激光：248 nm， ArF 准分子激光：193 nm较紫外光（EUV），苏州去胶机，10 ~ 15 nm对光源系统的要求

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市场份额

目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：ASML，去胶机， 尼康(Nikon)，佳能(Canon)。 根据2007年的统计数据，在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的市场份额。

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