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反渗透纯水、**纯水设备主要工艺流程和出水指标: —— EDI**纯水设备
1、预处理+一级反渗透(电导率≤10μs/CM)
2、预处理+二级反渗透(电导率≤2μs/CM)
3、预处理+反渗透+离子交换器(电阻率≥15MΩ.CM)
4、预处理+一级反渗透+EDI(电阻率≥15MΩ.CM)
5、预处理+二级反渗透+EDI +抛光混床(电阻率≥18.25MΩ.CM)
详细工艺需根据原水设计情况进行设计
反渗透纯水、**纯水设备的主要特点: —— EDI**纯水设备
1、采用进口反渗透膜,清远医药**纯水设备,脱盐率高,使用寿命长,运行成本低廉,产水水质高而稳定;
2、在线水质监测控制,实时监测水质变化,**水质安全;
3、全自动电控程序,清远医药**纯水设备求购,还可选配触摸屏操作,使用方便,操作简单、安全;
4、切合当地水质的个性化设计,清远医药**纯水设备供应,设想周到的堆叠式设计,占地面积小,*满足需求。
5、与传统工艺相比具有运行成本低的优点(离子交换器的再生周期大大延长),与较新工艺相比具有造价低,耗材易得的优点;
6、运行费用及维修成本低,全自动运行,实现无人化管理操作。
EDI**纯水设备的应用领域
**纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室。EDI纯水也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉补给水,以及其它用途的**纯水。
EDI**纯水设备是采用目前国际上较为先进的反渗透除盐技术来制备去离子水,是一种纯物理过程的制备技术。
EDI**纯水设备应用领域:
1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗;
2、子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液;
3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水;
4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;
5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液;
6、晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制;
7、集成电路生产中高纯水清洗硅片;
8、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
9、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏;
10、高品质显像管、萤光粉生产;
11、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;
12、**纯材料和**纯化学试剂、**纯化工材料;
13、实验室和中试车间;
14、汽车、家电表面抛光处理;
15、光电产品、其他高科技精微产品。