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工业纯水应用领域和指标要求参考(一): —— EDI**纯水设备
1、用途:单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产
用水指标:电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
参考标准:我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997
美国半导体工业用纯水指标
2、用途:单晶硅半导体集成电路块,显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业
用水指标:电阻率15 ~18.25 MΩ.CM
参考标准:美国半导体工业用纯水指标
我国电子级水质技术指标,广州医药**纯水设备价格,GB11446-1-1997
3、用途:光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水
用水指标:电阻率 10 ~17 MΩ.CM
参考标准:我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997 —— EDI**纯水设备
美国半导体工业用纯水指标
EDI的给水处理 —— EDI**纯水设备
给水预处理对于EDI及其重要,组件的寿命、性能及维修量都取决于给水中的杂质含量,广州医药**纯水设备供应,如果给EDI提供较好的预处理水,组件的清洗率将会降低。EDI浓水一部分循环(当给水硬度低、电导率时,广州医药**纯水设备报价,可以不循环),另外一部分可以返回到反渗透给水中,广州医药**纯水设备,也可以回收作为他用或直接排至下水道。
EDI的组件结构
1.淡水室:将离子交换树脂填充在阴、阳离子交换膜之间形成淡水单元。
2.浓水室:用网状物将每个EDI单元隔开,形成浓水室。
3.较水室。
4.绝缘板和压紧板。
5.电源及水路连接。
可以将EDI并联运行,可取得更大流量。 —— EDI**纯水设备