实验室热销产品管式炉真空炉年底大优惠1200℃单温区三路气体CVD系统 触屏操作）

MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料，有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底(通常是铜铝箔)放置在炉里,甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入，在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜。
快速冷却对于形成高质量的石墨烯薄膜非常重要，快速冷却可以抑制碳过量的沉积在催化剂金属箔上 (如铜或镍箔)；系统配备了快速冷却系统。管式炉向一侧滑动30mm到反应炉，加热的炉可以远离样品，从而快速冷却样品。通过非常简单的方式达到快速冷却的效果。

主要特点：
1）快速加热和制冷功能；
2）管式炉滑动装置，可使得样品快速加热和冷却；
3）特殊设计的测温传感器，可直接监测样品温度；
4）支持生长其他各种碳纳米材料（碳纳米管、碳纳米线等）； 

技术指标：
1）石英管尺寸：OD50×ID46×L1200mm
2）加热区尺寸：φ50×L260mm
3）较大操作温度：1200 ℃
4）正常使用温度范围：400-1100 ℃
5）程序化PID温度控制
6）三路气体源MFC控制 (hydrocarbon, H2, Ar)
7）旋转真空泵，抽速20L/min
8）热电偶实时监测样品温度
9）快速加热和制冷系统
10）手动管式炉滑动系统，滑动距离300mm
11）设备尺寸：W1400×H1000×D500mm