产品规格: | 不限 | 产品数量: | 不限 |
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公司编号: | 23081705 | 更新时间: | 2023-02-11 04:26:13 |
对比试样校准使用注意事项
1.在进行测试的时候要注意标准片集体的金属磁性和表面粗糙度应当与试件相似。
2.在测量的时候要注意,侧头与试样表面保持垂直。
3在进行测试的时候要注意基体金属的临界厚度,对比试样校准哪家好,如果大于这个厚度测量就不受基体金属厚度的影响。
4.在测量的时候要注意试件的曲率对测量的影响。因此在弯曲的试件表面上测量时不**的。
对比试样校准类型
1.涡流-当载有高频电流的探头线圈置于被测金属表面时,对比试样校准机构,由于高频磁场的作用而使金属体内产生涡流,此涡流所产生的磁场又反作用于探头线圈,使其阻抗发生变化,此变化量与探头线圈离金属表面的距离(即覆盖层的厚度)有关,因而根据探头线圈阻抗的变化可间接测量金属表面覆盖层的厚度。常用于测定铝材上的氧化膜或铝、铜表面上其他绝缘覆盖层的厚度。
2.同位素-利用物质厚度不同对辐射的吸收与散射不同的原理,可以测定薄钢板、薄铜板、薄铝板、硅钢片、合金片等金属材料及橡胶片,塑料膜,纸张等的厚度。常用的同位素射线有γ射线、β射线等。
对比试样校准测量前的准备
1. 对比试样的人工缺陷应使用酒精或C?H?O进行清洗,北京对比试样校准,用滤纸擦干,保持表面清洁,无锈蚀、金属屑、毛刺、污染物等影响测量的缺陷。
2. 将对比试样人工缺陷平行放置在载物台上(必要时使用合适的工装予以固定),调整试样,使人工槽长度或宽度方向与显微测量设备的X或Y轴平行。
3. 显微镜在合适的明场条件下,先用低放大倍数(10×或20×)找到人工缺陷位置,再换**放大倍数对试样聚焦,调整载物台及试样,对比试样校准报价,使人工缺陷处于视场*。 调整测量设备,使测量面聚焦清晰,选择测量点位。