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公司编号: | 14078537 | 更新时间: | 2022-10-21 23:15:18 |
净化技术的设备发展
对于半导体设备来讲,净化工程技术在微电子技术中起着十分重要的作用。微电子技术的是集成电路,而集成电路的生产对其工艺环境和工艺流程中的净化技术和设备提出了严格的要求。我国“九五”期间大力发展以微电子为重点的信息产业。净化工程技术水平在某种意义上已成为衡量一个国家和地区科学技术水平和工业水平的一个重要标志。
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,万级洁净室好不好,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜**过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度**过55%时,冷却水管壁上会结露,万级洁净室怎么样,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,万级洁净室哪家好,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,万级洁净室,又由于静电力的作用使粒子也*吸附于表面,同时大量半导体器件*发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。
净化工程中空气净化处理方案:
净化空气调节系统如需电加热时,应选用管状电加热器,位置应布置在高1效空气过滤器的上风侧,并应有防火安全措施。
送风机可按净化空气调节系统的总送风量和总阻力值进行选择,中效、高1效空气过滤器的阻力宜按其初阻力的两倍计算。
净化工程中净化空气调节系统除直流式系统和设置值班风机的系统外,应采取防止室外污染空气通过新风口参入净化车间内的防灌倒措施。
净化空气调节系统设计应合理利用回风,凡工艺过程产生大量有害物质且局部处理不能满足卫生要求,或对其他工序有危害时,则不应用回风。