天津XRD晶粒尺寸-XRD晶粒尺寸电话-半导体*

半导体XRD测试——广东省*半导体*是广东省*下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

小角XRD

小角XRD和广角XRD对应，即测试低角度区域，称为小角XRD，测试范围一般为0.5-10 °。小角XRD一般可以探测到更多的微观信息，比如介孔样品除了做物理吸脱附的表征，也可以通过测试小角XRD验证介孔是否规整。

变温XRD

变温XRD，顾名思义，就是改变温度测试XRD， 可测温度范围是95 K-1200℃，测试气氛可以是空气、氮气、气、真空或者二氧化碳。一般情况下需要设置测试的温度点，如室温、100 ℃、300 ℃、500 ℃等，升温速率以及XRD的角度测试范围。此外，还要求样品在测试温度范围内不熔化。

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XRD可以用于定量分析哪些内容？

A. 样品的平均晶粒尺寸，基本原理：当 X 射线入射到小晶体时，其衍射线条将变得弥散而宽化，晶体的晶粒越小， x 射线衍射谱带的宽化程度就越大。因此晶粒尺寸与XRD谱图半峰宽之间存在一定的关系，即谢乐公式（Scherrerequation），下期会详细分析其原理与注意事项。对于对于负载型催化剂表面的金属颗粒，其颗粒大小 d（单位 nm）与其分散度 D 之间可以简单地换算：d ≈ 0.9/D (注：0.9这个常数是经验值) 。

B. 样品的相对结晶度：一般将衍射峰积分所得的面积（As）当作计算结晶度的指标，XRD晶粒尺寸电话，与标准物质积分所得面积(Ag)进行比较，XRD晶粒尺寸哪家好，结晶度=As/Ag***。

C. 物相含量的定量分析：主要有K值法也叫RIR方法和Rietveld全谱精修定量等。其中，RIR法的基本原理为1:1混合的某物质与刚玉(Al2O3)，其衍射峰的积分强度会有一个比值，该比值为RIR值。通过将该物质的积分强度/RIR 值总是可以换算成Al2O3的积分强度。对于一个混合物而言，物质中所有组分都按这种方法进行换算，后可以通过法得到某一特定组分的百分含量。

D. XRD还可以用于点阵常数的精密计算，残余应力计算等 

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微区XRD

微区XRD可以测试某个区域的XRD谱图，但是测试区域需要大于等于0.5 mm，不能太小。另外测试角度范围默认是5-90 °，其他角度需要先和检测老师沟通后再做决定。比如需要测试块体样品（尺寸要求是长宽一般1-2 cm，厚度不**过5 mm）上面某一个或一些小区域的XRD，就可以用微区XRD来测试。

掠入射XRD

掠入射XRD是专门用来测试薄膜样品的手段。测试光是平行光，相对于常规的衍射光来说能量较小，天津XRD晶粒尺寸，因此掠入射测试XRD的谱图峰强相对较弱。但是平行光可以更好的关注薄膜表面的信息，也不容易测到基底，因此掠入射XRD专门用于测试薄膜样品。薄膜尺寸没有特别要求，但是需要测试面平整光洁，不要有遮挡物，这样测试结果才真实可信。

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