产品规格: | 不限 | 产品数量: | 不限 |
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包装说明: | 不限 | 价格说明: | 不限 |
查看人数: | 40 人 | 本页链接: | https://info.b2b168.com/s168-235846505.html |
公司编号: | 8040078 | 更新时间: | 2023-07-05 15:56:56 |
CPN-H79-22A型等离子去胶设备
用途:用于生产半导体器件干法工艺中的芯表面光刻胶的干法去除,并且也可兼做刻蚀工艺。
主要技术指标:
1、主机电源:380V/50Hz 1Kw
2、反应室结构:不锈钢笼式
3、 射频电源:f=13.56MC p=0~500W
4、 驻波比<1.5 带有匹配络和功率计 5、 较大装片直径:Ф100mm
6、装片量:60片
7、去胶速率:1000A°/min
8、尺寸:750×500×1400(mm)重量:120Kg