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    Sentech等离子刻蚀机SI500/Etchlab200/SI591干法刻蚀机
上海螣芯电子科技有限公司
  • 所在区域:上海青浦夏阳
  • 经营性质:私有企业
  • 企业类型:经销批发
  • 注册地:上海 青浦 夏阳 上海市青浦区青浦新城城东新村二区104号
  • 主营产品:半导体封装设备,半导体前道设备,半导体检测设备
  • 注册资金:人民币 250 - 500 万元
  • 企业已认证
  • 个人实名未认证
    商家产品分类
    “Sentech等离子刻蚀机SI500/Etchlab200/SI591干法刻蚀机”详细信息
产品规格: 见资料 产品数量: 99.00 台
包装说明: 木箱 价格说明: 不限
查看人数: 128 人 本页链接: https://info.b2b168.com/s168-230121273.html
公司编号: 23049994 更新时间: 2023-05-18 17:09:43
电源: 220V 自动手动: 手动
功能: 等离子刻蚀 加工定制:
重量: 见包装 规格: 4、6、8晶圆
精度: 均匀性5%


上海螣芯电子科技有限公司

ICP-RIE等离子刻蚀机SI 500

低损伤刻蚀

由于离子能量低,离子能量分布带宽窄,因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀

高速刻蚀

对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀,光滑的侧壁可以通过室温下气体切换工艺或低温工艺即可很*地实现。

*的ICP等离子源

三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它具有高耦合效率和非常好的起辉性能,非常适用于加工各种材料和结构。

动态温度控制

在等离子体刻蚀过程中,衬底温度的设定和稳定性对于实现高质量蚀刻起着至关重要的作用。动态温度控制的ICP衬底电极结合氦气背冷和基板背面温度传感,可在-150°C至+400°C的***温度范围内提供了优良的工艺条件。

SI 500为研发和生产提供电感耦合等离子体(ICP)工艺设备。它基于ICP等离子体源PTSA,动态温度控制的衬底电极,全自动控制的真空系统,使用远程现场总线技术的***SETECH控制软件和用于操作SI 500的用户友好的通用接口。灵活性和模块化是SI 500主要的设计特点。

SI 500 ICP等离子刻蚀机,通过配置可用于刻蚀不同材料,包括三五族化合物半导体(GaAs, InP, GaN, InSb),介质,石英,玻璃,硅和硅化合物(SiC, SiGe),还有金属等。

SENTECH提供用户不同级别的自动化程度,从真空片盒载片到一个工艺腔室到六个工艺模块端口,可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统,目标是高灵活性或高产量。SI 500 ICP等离子刻蚀机也可用作多腔系统中的工艺模块。



RIE等离子刻蚀机Etchlab 200


RIE等离子蚀刻机Etchlab 200结合平行板等离子体源设计与直接置片。

升级扩展性

根据其模块化设计,等离子蚀刻机Etchlab 200可升级为更大的真空泵组,预真空室和更多的气路。

SENTECH控制软件

该等离子刻蚀机配备了用户友好的强大软件,具有模拟图形用户界面,参数窗口,工艺编辑窗口,数据记录和用户管理。


Etchlab 200 RIE等离子刻蚀机代表了直接置片等离子刻蚀机家族,它结合了RIE的平行板电极设计和直接置片的成本效益设计的优点。Etchlab 200的特征是简单和快速的样品加载,从零件到直径为200mm或300mm的晶片直接加载到电极或载片器上。灵活性、模块性和占地面积小是Etchlab 200 的设计特点。位于**部电极和反应腔体的诊断窗口可以方便地容纳SENTECH激光干涉仪或OES和RGA系统。椭偏仪端口可用于SENTECH原位椭偏仪进行原位监测。


RIE等离子刻蚀机SI 591

工艺灵活性

RIE蚀刻机SI 591 特别适用于氯基和氟基等离子蚀刻工艺

占地面积小且模块化程度高

SI 591 可配置为单个反应腔或作为片盒到片盒装载的多腔设备。

SENTECH控制软件

我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面,参数窗口,工艺窗口,数据记录和用户管理。

预真空室和计算机控制的等离子体刻蚀工艺条件,使得SI 591 具有***的工艺再现性和等离子体蚀刻工艺灵活性。灵活性、模块性和占地面积小是SI 591的设计特点。样品直径可达200mm,通过载片器加载。SI 591可以配置为穿墙式操作或具有更多选项的占地面积操作。

位于**部电极和反应腔体的更大诊断窗口可以轻易地容纳SENTECH激光干涉仪或OES和RGA系统。椭偏仪端口可用于SENTECH椭偏仪进行原位监测。

SI 591结合了计算机控制的RIE平行板电极设计的优点和预真空室系统。SI 591可配置用于各种材料的刻蚀。在SENTECH,我们提供不同级别的自动化程度,从真空片盒载片到一个工艺腔室或多六个工艺模块端口,可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统,目标是高灵活性或高产量。SI 591也可用作多腔系统中的一个工艺模块。


欢迎来到上海螣芯电子科技有限公司网站,我公司位于历史文化悠久,近代城市文化底蕴深厚,历史古迹众多,有“东方巴黎”美称的上海市。 具体地址是上海青浦夏阳上海市青浦区青浦新城城东新村二区104号,联系人是娄经理。
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单位注册资金单位注册资金人民币 250 - 500 万元。

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