用微纳米气泡清洗的听说十分无法生产的半导体材料芯片的相片。当在生产环节中加入很多正离子时,在光致抗蚀剂表层周边会产生称之为硬皮的硬底化层。当产生如此的硬底化层时,除去光致抗蚀剂越来越十分艰难。乃至盐酸/是一种强劲的化学溶液,也不易除去。可是,假如应用含活性氧的微纳米气泡,则只有用水将其完全清除23)。自然,一般的臭氧水压根无法解决困难,可是有可能根据应用微纳米气泡来创建环境保护的清理技术性。
那麼,为何可以在产生结壳层以后去除半导体材料芯片,该结壳层即使仅用水也难以用环化学溶液解决?为了更好地未来将该技术性引进当场,必须处理解决時间的问题,因此,表明作用机理很重要。那边使我们科学研究微纳米气泡的特点。
气泡是人们了解的,可是近些年微纳米气泡的特性早已越来越很清晰。如下图1所显示,污水处理纳米气泡曝气机,一切正常气泡在水中迅速升高。直径低于50μm的微纳米气泡(称之为微气泡)在升高并在内部结构起球时在水中收拢,随后在表面弹出来。可是,假如使气泡缩小以产生纳米气泡(直径为200nm或更小),他们将始终保存在水中,韶关纳米气泡曝气机,这将是十分好玩的。在开发设计纳米气泡的历程中,工业生产技术性研究所一直与协作开展应用微纳米气泡的污水处理技术的科学研究。在这篇文章中,大家讲解了这种微/纳米气泡的特性及其其工程项目主要用途的概率。
用活性氧纳米气泡水清理后的残留液体的RLU值和被血夜空气污染的布的RLU值远低于离子交换法水。RLU值越低,则ATP的成份越少,洁净度越高,因此,可以建立由于臭氧的氧化导致的ATP去除实际效果(洁净度)。此外,在微纳米汽泡中也可以看到ATP去除实际效果,尽管实际效果并不大。另一方面,在由湿的脏布的透射系数获得的清除率中,未观察到由于清洁液的差异而产生的明显实际效果。却不知道,湖泊纳米气泡曝气机,在被血夜空气污染的布的清除率中,活性氧纳米汽泡的清除率大过离子交换法水的清除率,并且清除实际效果得到认可。由科学研究支助B支助(24300249,山口洋子)。