南通优质K9玻璃 哪家好 诚信经营 泰宇供

玻璃湿法刻蚀流程图如图1所示。将玻璃基底表面拋光,在拋光面镀一层保护掩膜,然后甩光刻胶 AZ4620,胶厚5，经过100 °前烘,光刻,显影,利用腐蚀液除去图形内暴露部分的膜层，南通优质K9玻璃 哪家好,完毕后清洗表面并做坚膜处理，南通优质K9玻璃 哪家好,坚膜温度为120 °,恒温4 h,坚膜后将进行刻蚀,根据不同需要调配刻蚀剂进行刻蚀，南通优质K9玻璃 哪家好，刻蚀温度、搅拌速度等参数也随不同的管道尺寸及刻蚀深度要求而具体设置,刻蚀完成后清洗玻璃并去除光 刻胶及铬层。南通优质K9玻璃 哪家好

玻璃表面蚀刻纹路由于5G时代玻璃手机后盖流行成为趋势，预测大部分中高端机型将采用玻璃作为手机的后盖板。因此，基于玻璃材质的微加工工艺也就成为CMF研究中不可回避的一个技术问题。而且，由玻璃材质的特殊性，利用蚀刻方式对玻璃表面进行各种纹路的加工越来越被人们所重视。研究这种玻璃表面微蚀刻加工就成为比较重要的一项课题。在玻璃表面通过蚀刻的方式加工出线宽线距甚至深度的方法就成为非常重要的一个工艺环节。当前，普通玻璃微蚀刻普遍采用湿法刻蚀，采用46%的氟酸作为刻蚀剂在30℃的温度下进行玻璃材质的电泳芯片刻蚀，刻蚀速度较高，表面质量不佳;还有采用1%的氟酸和5%的作为刻蚀剂对玻璃微管道进行刻蚀,刻蚀温度为65℃南通优质K9玻璃 哪家好

玻璃组成中的二价阳离子的较化能力对黏度有着明显的影响。离子发生较化而变形，使共价 键成分增加，相对减弱了 Si—O键力，导致黏度下降。因此，具有18电子层结构的过渡金属离子 降低黏度的作用较碱土金属离子强。从表24-5可以看出部分二价金属氧化物对Na20~R(>Si02系统 玻璃黏度的影响，即同一黏度值所对应的温度越低，该氧化物降低黏度的作用越强。碱土金属氧化物对玻璃黏度的影响作用较为复杂，它们既能提供“游离氧”引起熔体中的硅 氧阴离子团发生解聚，导致黏度降低。同时，由于阳离子的电价较高且离子半径不大，具有较高 的键强，有可能吸引氧离子使尺寸较小的阴离子团发生缔合，导致黏度增大。

直接利用光刻胶作为保护膜的器件,在不加温条件和在腐蚀液HF+NH4F (0.5mol/l : 0.5mol/l) 的环境下，在60min以内，光刻胶对未刻蚀区域的保护非常良好,腐蚀的速率为200nm/min,器件的侧向 腐蚀导致的展宽在15微米左右。在70min以后,光刻胶出现剥落现象，同时由于光刻胶的黏附力不是很大, 在器件表面有漂浮的迹象,这时,管道刻蚀宽度展宽非常大,而刻蚀深度又非常浅,已经对器件产生了破坏作用。利用水浴加热刻蚀环境的温度至50 "C,光刻胶在20min就产生剥落现象,所以光刻胶作为抗腐蚀液的保护作用只能在常温25 ℃左右,**过50 ℃以后,对图形的保护就不是很有效。

将氟酸、或和水按一定的浓度比调配刻蚀剂100ml,放入塑料容器内，利用水浴恒温, 采用叶片式搅拌器加以搅拌,每刻蚀20 min清洗并检测。利用电镜观察通道表面的刻蚀效果，同时观察两种刻蚀剂对基底的刻蚀效率和对基底表面保护膜的破坏作用，同时观察不同尺寸的毛细管的深度方向的 刻蚀速率和侧向钻蚀速率。要对玻璃进行湿法刻蚀 , 主要采用两种腐蚀液 , 一种为氟酸加(HF+ HNO3+ H2O),所以采用的保护膜材料必须能对酸有抗腐蚀性能。考虑到镀膜工艺的成熟性以及较后去膜的方便,选用了四种材料(光刻胶，铬,氮化硅，ITO)作为玻璃表面的抗腐蚀保护膜。南通优质K9玻璃 哪家好

南通优质K9玻璃 哪家好

微刻蚀时，由于希望采用较高的刻蚀速率,所以对保护膜在刻蚀溶液中长时间浸泡下的耐腐蚀性提出了较高的要求,但是由于工艺的较开始要镀一层保护膜,接着要腐蚀出窗口，所以要求镀膜的致密性比较好,而且要有腐蚀液。所以选择了光刻胶，铬,光刻胶加铬,氮化硅,ITO、抗酸油墨等多种材料作为基底材料玻璃的抗腐蚀保护掩膜,并利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,确定了不同材料保护膜的适用范围。南通优质K9玻璃 哪家好

海安泰宇光学玻璃有限公司致力于化工，以科技创新实现高品质管理的追求。泰宇光学拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队，以高度的专注和执着为客户提供钢化玻璃， 特大尺寸视窗玻璃，台阶玻璃，cnc玻璃加工。泰宇光学致力于把技术上的创新展现成对用户产品上的贴心，为用户带来良好体验。泰宇光学始终关注化工市场，以敏锐的市场洞察力，实现与客户的成长共赢。