产品规格: | 不限 | 产品数量: | 不限 |
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包装说明: | 按订单 | 价格说明: | 不限 |
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公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,光罩,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
如需要烤版,烤版时要注意:①首先要选好烤版胶,烤版胶不能太脏。如用固体桃胶配制,一定要用热水溶胶,胶要彻底溶开、过滤再用。②把适量的烤版胶涂在版面上,用海绵将版面涂擦均匀。③烤版胶不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤,图像区域会均匀变色。不同的PS版,烘烤时间、温度及终颜色会不一致,所以需通过试验确定烤版条件。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,后应用于光蚀刻。
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使用无掩模光刻机读取版图文件,对带胶的空白掩膜版进行非接触式曝光(曝光波长405nm),照射掩膜版上所需图形区域,使该区域的光刻胶(通常为正胶)发生光化学反应
经过显影、定影后,曝光区域的光刻胶溶解脱落,暴露出下面的铬层