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光掩膜是刻有微电路的版,由表面纯平并带有一层铬的石英板或玻璃板制作而成,蚀刻后的残留铬部分即为设计的微电图。这种制版方式在掩膜行业称为光透。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻袭工艺,在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套(几块zhidao多至十几块)相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,光刻板,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
色彩:物体的色彩来源于光。自然界中绝大部分物体本身是不发光的,如印刷品、花草、树木。它们的颜色是来自对太阳光谱的色光加以反射或透射而产生的。自然界中光的三原色是红、绿、兰,这三种色光不同的组合可组成无数种色光;色料的三原色是青、品红和黄,理论上,此三色颜料不同比例的混合,可得到自然界中1切颜色。
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光刻板本体的外部边缘增设一保护环,保护环具有多种开孔,以便在保护环处的硅片的边缘处刻出晶粒,将光刻板本体处的硅片保护起来,硅片边缘刻出晶粒后,边缘的不合格情况通过目测可以清楚看出,能有效防止混料情况;利用本实用新型刻出的硅片,在高压测试时,能防止漏电打火,安全性能具有较大提高