产品规格: | 不限 | 产品数量: | 不限 |
---|---|---|---|
包装说明: | 按订单 | 价格说明: | 不限 |
查看人数: | 13 人 | 本页链接: | https://info.b2b168.com/s168-155956729.html |
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,光罩,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
制版(platemaking)是将原稿成印版的统称。有将铅活字排成活字版,以及用活字版打成纸型现浇铸成凸版和将图像经照像或电子分色获得底片,用底片晒制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影响印版质量的因素,主要有显影液浓度、显影温度和显影时间以及显影液的循环搅拌情况、显影液的疲劳程度等。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光呆板业界别称光掩模板、掩膜版,光罩,英文名字MASK或PHOTOMASK),材料:石英玻璃、金属铬和光感应胶,该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底,在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位,便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造,称之为光刻掩模板。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构,称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺,在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套(几块多至十几块)相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。