产品规格: | 不限 | 产品数量: | 不限 |
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包装说明: | 按订单 | 价格说明: | 不限 |
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公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
随着冲版量的不断增加和空气中的CO2不断溶入,显影液中的OH-浓度会下降,pH值将越来越低,显影时间应慢慢变长,至后在正常曝光条件下PS版无法显影,这就是显影液疲劳的现象。但随着显影液pH值的降低,碱液对氧化层和涂层树脂的腐蚀力下降,版材的网点再现性及耐印力比用新配制的显影液好一些。但必须注意两点,一是冲版量必须控制在显影液容许范围内;
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使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀,光罩,将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域,而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀,形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。
在有必要的情况下,使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层,并对掩膜版进行清洗。
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光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。