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    光罩-光刻版(图)
苏州优版光电有限公司
  • 所在区域:江苏苏州吴中区
  • 经营性质:私有企业
  • 企业类型:生产加工
  • 注册地:
  • 主营产品:光电材料,光刻掩膜版
  • 注册资金:
  • 企业已认证
  • 个人实名未认证
    商家产品分类
    “光罩-光刻版(图)”详细信息
产品规格: 不限 产品数量: 不限
包装说明: 按订单 价格说明: 不限
查看人数: 58 人 本页链接: https://info.b2b168.com/s168-155896670.html


苏州优版光电有限公司

公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!

随着冲版量的不断增加和空气中的CO2不断溶入,显影液中的OH-浓度会下降,pH值将越来越低,显影时间应慢慢变长,至后在正常曝光条件下PS版无法显影,这就是显影液疲劳的现象。但随着显影液pH值的降低,碱液对氧化层和涂层树脂的腐蚀力下降,版材的网点再现性及耐印力比用新配制的显影液好一些。但必须注意两点,一是冲版量必须控制在显影液容许范围内;











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使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀,光罩,将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域,而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀,形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。

在有必要的情况下,使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层,并对掩膜版进行清洗。






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光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。



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