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    盐城掩膜版-制版厂(图)
苏州优版光电有限公司
  • 所在区域:江苏苏州吴中区
  • 经营性质:私有企业
  • 企业类型:生产加工
  • 注册地:
  • 主营产品:光电材料,光刻掩膜版
  • 注册资金:
  • 企业已认证
  • 个人实名未认证
    商家产品分类
    “盐城掩膜版-制版厂(图)”详细信息
产品规格: 不限 产品数量: 不限
包装说明: 按订单 价格说明: 不限
查看人数: 15 人 本页链接: https://info.b2b168.com/s168-155884866.html


苏州优版光电有限公司

公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!

掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如,掩膜版,可以用平整的玻璃板,涂覆上金属铬薄膜,通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备,其制作过程就是典型的光刻工艺过程,包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。








公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!

实体结构:布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模(Reticle):当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模,通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模(Mask):当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。






光掩膜是刻有微电路的版,由表面纯平并带有一层铬的石英板或玻璃板制作而成,蚀刻后的残留铬部分即为设计的微电图。这种制版方式在掩膜行业称为光透。

半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻袭工艺,在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套(几块zhidao多至十几块)相互间能套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。






盐城掩膜版-制版厂(图)由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司()为客户提供“光电材料,光刻掩膜版”等业务,公司拥有“苏州制版”等品牌,专注于光电子、激光仪器等行业。欢迎来电垂询,联系人:马经理。


欢迎来到苏州优版光电有限公司网站,我公司位于园林景观其独特,拥有 “中国园林之城”美称的苏州市。 具体地址是江苏苏州吴中区苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室,联系人是马经理。
主要经营光电材料,光刻掩膜版。
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