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公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光学掩模板的应用
光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成电路)芯片,还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及PC板等。
光掩膜所起的作用类似于底片之于相片,光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影,这种方法就是熟称的曝光,这个时候的掩膜也可称为光罩。
准纳光电制作掩膜板,光刻铬版,设计,光罩,制作,加工,批量化生产 蚀刻工艺 精度1um 承接掩模板,光刻铬板,标定板,光栅板,分划板,异型玻璃加工
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光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
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光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节,光刻版必须非常洁净,所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净,存在污染颗粒,这些颗粒就会被到硅片表面的光刻胶上,造成器件性能的下降。