产品规格: | 不限 | 产品数量: | 不限 |
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公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
石英掩膜版
苏达掩膜版
使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对**石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版
光刻工艺
是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,利用曝光和显影在光刻胶层上刻画器件结构,再通过刻蚀工艺将掩膜上的图形转换到衬底上。原位芯片目前掌握电子束光刻,步进式光刻,接触式光刻等多种光刻技术.
光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,光刻版,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
石英岩的原岩可以是:单矿物石英砂岩,含泥质、钙质石英砂岩,胶体沉积的硅质岩(包括陆源碎屑溶解再沉积的硅质岩和与火山喷气有关的硅质岩)和深海虫硅质岩等。不同原岩形成的石英岩,可根据结构、变晶程度、副产物、岩石共生组合及产状等加以区分。