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陶瓷化合物是指高**属材料的的碳、氮,氧,硫等的化合物,随着陶瓷化合物材料在**陶瓷、发光材料、光学镀膜等方向的研究不断深入,其在电子半导体、太阳能光伏、光学器件、液晶显示等领域的应用越来越广泛。
中诺新材**生产加工高纯陶瓷化合物靶材,粉末,颗粒等,并可根据您的需求提供**的定制服务。用于镀制不同用途的导电膜,介质膜等
高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。
1、粉末冶金法:指钨粉经过成形后,高纯铂靶材 磁控溅射铂靶材 ,加热到其熔点下的某个温度,通过物质迁移完成致密化的过程,较终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。
2、熔炼法:指将钨原料加热到其熔点以上形成液相,去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程,高纯铂,根据所采用的手段不同,铂靶材供应厂家高纯铂丝,具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。
3、化学气相沉积:指以钨化合物气体(一般为WF6)为钨源,Pt 4N高纯铂 铂靶材价格,在一定温度下被H2还原,将生成的钨沉积在特定的基底上,沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯(或者制品)的过程。
定制化生产是中诺新材的一大特色。以先进的生产设备,规范的加工流程,经验丰富的技术人员为后盾,我们可定制化生产加工不同纯度规格尺寸的产品。
高纯箔材片材:厚度0.01-3.00mm
高纯丝材棒材:直径0.01-10mm
坩埚蒸发耗材:钨,钼,钽,石墨,氮化硼等坩埚,各尺寸蒸发线圈。蒸发舟。
单晶衬底基片:不同尺寸,电阻单晶硅片。石英衬底,金属单晶基片