工业纯水设备厂家

半导体显象管用超纯水设备厂家/半导体产品用去离子水设备 ZSCK-10000L

一、概述

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。我公司制造半导体显象管用超纯水设备是根据目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

二、半导体显象管用超纯水设备应用领域

1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;

2、超纯材料和超纯化学试剂;

3、实验室和中试车间;

4、汽车、家电表面抛光处理;

5、光电产品;

6、其他高科技精微产品;

三、半导体显象管用超纯水设备工艺流程

二级反渗透+EDI系统(出水18mΩ.cm)

原水箱—原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→一级高压泵—一级反渗透主机→PH调节—二级级高压泵—二级反渗透—纯水箱—脱气装置—微孔过滤器→EDI系统→抛光混床系统—储水罐→纯水输送泵→用水点

四、半导体显象管用超纯水设备特点

设备通常由全自动多介质过滤器，全自动活性碳过滤器，全自动软化器、精密过滤器等构成前期预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

温馨提示：水处理设备的要求需要了解几点内容：

1、纯水的产水量(按每小时计算)

2、纯水要求的水质(例如多少兆欧)

3、原水进水水质是什么水(例如自来水，地表水，深井水)

4、制作纯水的工艺(工艺不一样价格也不一样)

5、用于生产什么产品

6、配置的品牌及控制方式(PLC自动控制，手动控制)型号和数量等。