宏钜金属(多图)-5N6N高纯铝颗粒真空蒸发材料-高纯铝

名 称：铬

符 号：Cr

原子量：51.9961

熔 点：1907℃

沸 点：2671℃

密 度：7.19g/cm3    

高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有**、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点，可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。

我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉，并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶，具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点。

高纯铬  Cr  2N5 3N5  靶材  根据要求定制

高纯铬  Cr  3N5 4N 粉末 -200目

高纯铬  Cr  3N5 4N 片状 不规则片状

高纯铬  Cr  3N5颗粒 3-5mm  

    我公司可提供铬合金如铝铬合金，钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末，蒸发膜料及靶材合金及化合物

铬铝合金 AlCr 3N 靶材  颗粒

铝铬钇合金 AlCrY 3N 靶材

钴铬钨合金 CoCrW 3N 靶材

氧化铬 Cr2O3 4N 靶材 颗粒 粉末

名 称：硒

符 号：Se

原子量：78.96

熔 点：217℃

沸 点：685℃  

密 度：4.28g/cm3    

硒是非金属元素，灰色，有金属光泽的固体，硒在电子工业中主要用于光电管和太阳能电池方面。纯度为5N以上的硒称为高纯硒，Al5N熔炼用蒸镀高纯铝颗粒，我公司可以提供高纯硒粒，广泛应用于铜铟jia硒太阳能电池行业。

高纯硒靶材  Se  4N  靶材

高纯硒粉末  Se 5N 6N  粉末  -60目及以下

高纯硒颗粒 Se  4N 5N 6N  颗粒 块状  1-3mm，2-8mm    

硒化物也是非常重要的半导体材料，常规的有氧化硒，硒化铟，硒化镉，硒化铋等

名  称：金

符  号：Au

原子量：196.97

熔  点：1064.2℃

沸  点：2808℃                      

密  度：19.32g/cm3

高**在电子行业中有着广泛应用。我公司可以供高**99.99%-99.999%，广泛应用于蒸发镀膜，磁控溅射等方面。主要有靶材，高纯铝颗粒蒸发镀膜颗粒，颗粒，丝状，片状等形态，并可提供残靶，余料回收业务。

高**  Au  4N-5N  靶材  根据要求定制  可回收

高**  Au  4N-5N  粉末 100目，Al，200目

高**  Au  4N-5N  棒状  φ3*3mm 可定制

高**  Au  4N  丝状  φ0.01-5mm

高**  Au  4N片状  0.03-10mm

金合金如金锗合金，金锗镍合金，金铍合金等广泛应用于电子，高纯铝，LED行业。

我公司可以提供产品如下：合金及化合物金锗合金（AuGe12） 金锗镍合金（AuGe11.4Ni5），金锡合金（AuSn20），金银合金，金钯合金，金铍合金等