供应脱模剂粉

技术参数
货号	平均粒径(μm)	纯度(%)	比表面积(m2/g)	体积密度(g/cm3)	密度(g/cm3)	晶型	颜色
ST-T-001	1	>99.999	20	1.3	2.9	-	灰白色
备注:根据用户要求可提供不同微米粒度的产品。
应用方向
主要应用于多晶硅和单晶熔炼过程中,石英坩埚脱模用。多晶硅和单晶硅生产时,在原料熔化、晶体生长过程中,硅熔体和坩埚长时间接触会产生黏滞性。由于两种材料的热膨胀系数不同,如果硅材料和坩埚壁结合紧密,在晶体冷却时很可能造成晶体硅或坩埚破裂。而硅熔体和坩埚的长时间接触还会造成陶瓷坩埚的腐蚀,使多晶硅中的氧浓度升高。为了解决这些问题,国外工艺上一般采用高纯氮化硅材料作为涂层附在坩埚的内壁,隔离硅熔体和坩埚的直接接触,不仅解决了黏滞问题,而且可以降低多晶硅中的氧、炭等杂质浓度。利用定向凝固技术生长的铸造多晶硅,多数情况下坩埚是消耗品,不能重复循环使用,即每炉多晶硅都需要消耗一只陶瓷坩埚。采用氮化硅涂层后可使石英陶瓷坩埚得到重复使用,大幅度降低生产成本我公司根据多晶硅和单晶硅生产工艺特点,开发销售了石英坩埚**脱膜剂及相关喷涂工艺。高纯氮化硅脱模剂粒度在0.5-1.2微米之间,可以有效地解决在涂层高温固化过程中的氧化问题,使多晶硅和单晶硅的纯度获得大幅度提高,其粉末的纯度可达99.99%以上,可用作光伏工业中熔炼多晶硅铸锭的石英坩埚涂层材料。可有效防止坩埚内壁与熔融硅料粘接,方便脱模,同时起到阻隔层作用,**硅锭纯度。与纳米氮化硅或其他类型脱模剂相比,具有优异的抗氧化性能,确保生产过程中碳、氧等杂质浓度获得有效控制。产品纯度高,粒度均匀,性能上*可与国外同类产品相比较,目前已实现批量化生产。因此可以解决目前国内的石英坩埚涂层粉*依赖日本UBE、德国Starck等进口,且有较大成本优势。
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