一、设备概述:
? ? ? T-ALD原子层沉积系统是专门为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统。该系统电气完全符合CE标准,广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。
二、产品优势:
? ? ? ?先进的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。
三、技术指标:
? ?基片尺寸 8英寸及以下尺寸
? 基片加热温度 室温~300℃
? ?前驱体源路数 标准3路前驱体管路,可选配
? ?前驱体管路温度 室温~200℃,控制精度±0.1℃
? ?源瓶加热温度 室温~200℃,控制精度±0.1℃
? ?ALD阀 Swagelok快速高温ALD**阀
? ?本底真空 <5x10-3Torr,进口防腐泵
? ?载气系统 N2或者Ar
? ?长模式 连续和停留沉积模式任意选择
? ?控制系统 PLC+触摸屏或者显示器
? ?电源 50-60Hz,220V/20A交流电源
? ?沉积非均匀性 非均匀性<±1%
? ?设备尺寸 600mm x 600mm x 1100mm
四、可沉积薄膜种类:
? ? ? ?单 质:Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…
? ?氮化物:TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …
? ?氧化物:TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2…
? ?其它化合物:GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…
五、ALD应用实例:
? ? ?存储容性电介质,铜互连中高深宽比扩散阻挡层,OLED无针孔钝化层,MEMS的高均匀镀膜,纳米多孔结构镀膜,特种光纤掺杂,太阳能电池,平板显示器,光学薄膜,其它各类特殊结构纳米薄膜。
欢迎来到北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司网站,我公司位于拥有6项*遗产,拥有文化遗产项目数较多的城市,一座有着三千余年建城历史、八百六十余年建都史的历史文化名城,拥有众多历史名胜古迹和人文景观的中国“八大古都”之一 —北京。 具体地址是
主要经营我公司自主研发实验用PE-CVD、热蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、ALD、PLD等镀膜设备,还自主研发实验用真空电弧炉、真空感应熔炼炉。负责产品的销售和售后维护。。