泸州智能恒温循环器ZX-5B

低温恒温循环器

低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。

提供-40℃~105℃温度范围内的高、低恒温液体，以满足用高、低温做反应的恒温仪器的需要。

特别适用与化学反应釜、发酵罐、旋转蒸发器、电子显微镜、阿贝折先仪、蒸发皿、生物制药反应器等实验设备配套使用。

先进的内循环和外循环泵系统，内循环使仪器温度均匀恒定，外循环泵输出16升/分~18升/分在流量高、低温液体。

一、恒温槽主要由浴槽、加热器、搅拌器、温度计、感温元件、温度控制器等部分组成的。

二、各部分的作用如下：

浴槽：用来盛装恒温介质；

加热器：通过电加热使介质的温度升高，以弥补热量的散失；

搅拌器：通过机器搅拌保持浴槽内的介质各部分温度均匀；

温度计：指示恒温槽的温度，恒温槽的温度高低一定要以此温度计为准；

感温元件：设定恒温槽所需的恒温温度，常用接触温度计作为感温元件；

温度控制器：通过感温元件发出的“通”、“断”指令，对加热器实施控制加热，常用继电器作温

度控制器。