直读光谱仪，目前常用的光源有以下两种：一是经典光源包括电弧及火花光源，二是等离子体光源居多。其中在冶金分析中广泛应用的有高压控波光源、低压火花高速光源和高能预火花光源。那么光谱分析常用光源的放电方式有哪些呢？

1. 高能预火花放电较大电流可达150安和燃烧时间为150微秒，这样使试样中燃烧斑点内的组织结构更加均匀，由此来消除元素之间干扰及元素之间结合等效应。

2.火花型放电对大多数元素重现性好。

3.电弧型放电重现性要比火花放电差2—3倍，但对痕量元素检出限要低得多。

因此在选择光源时应尽量满足以下要求：

1.高灵敏度，随着样品中元素浓度微小变化，其检出的信号有较大的变化；

2.低检出限，能对微量及痕量成分进行检验；

3.良好的稳定性，试样能稳定的蒸发、原子化和激发，使结果具有较高的精密度：

4.谱线强度与背景强度之比大(信噪比大)；

5. 分析速度快，预燃时间短；

6.构造简单，容易操作，安全；

7.自吸收效应小，校准曲线的线性范围宽。

光源激发条件的选择是由分析对象经过试验来决定的。不同的试样在不同的光源下，它的预燃时间是不一样的，因为试样在火花放电时的蒸发过程，它不仅与光源的能量、放电气氛密切有关以外，还与试样组成、结构状态、夹杂物种类、大小等等密切有关。

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