PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，PVD即物理气相沉积，是目前国际上广泛采用的一种先进的表面处理方法。它的工作原理是在真空条件下，用气体放电将气体或被蒸发物质部分离化，将蒸发物或其反应物沉积到基体上，同时使气体离子或被蒸发物质离子轰击。其特点是沉积速度快，表面干净，尤其是膜层附着力强，缠绕力强，可镀材料范围广。

 PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年真空离子镀技术的发展是较快的，它已经成为了当代较先进的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。

PVD真空镀膜优点：

1、附着力较强，可折折折90度以上而不开裂或剥落(PVD镀层具有高附着力和耐久性)。其他工艺，包括电镀，喷涂是无法与之相比的。

2、任何可供想象的图案都可以蚀刻出来。

3、可用于装修或用于户外。

4、减压涂层，抗氧化，防腐。耐蚀性好，化学性能稳定，抗酸性好。移动电话PVD镀膜抗性。

5、涂料外壳易于去除油漆和指纹。

6、强光下，盐渍化的湿地和城市环境，都不会失去光泽，不会氧化，不会褪色，不会脱落，不会破裂。高耐磨性，耐刮擦性，不易刮伤。可镀性材料广泛，与基体的结合力很强。

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