在科技飞速发展的今天，市场对产品需求的更新，任何行业都需要不断地开拓创新，研发新的事物，这既是为了改善产品的工艺质量，促进行业的发展，也是为了能满足市场的需求，为客户提供较优质的产品。

镀膜工艺中也是如此，虽然PVD，CVD镀膜工艺已很成熟，也应用于很多行业，并且对产品也起到了很好的保护作用，也提升了产品的价值。但是在一些特殊的行业和产品中，现有的镀膜工艺已不能够满足需求，这就需要研发新的镀膜工艺，磁控溅射镀膜就是其中一种。

磁控溅射镀膜的原理是在PVD真空炉体内，电子在电场的作用下加速飞向产品的过程中与Ar原子发生碰撞，电离出大量的Ar离子和电子，在此过程中不断地与Ar原子发生碰撞，产生更多的Ar离子和电子，Ar离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，沉积在产品表面的一层微米级薄膜。这种膜层具有高硬度、耐磨损、耐腐蚀、金属感强等优点被广泛应用。

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