TX-75型直读光谱仪技术参数特点安装验收环境使用说明

仪器的主要特点
高性能光学系统	光学系统激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光学室，实现光路直通，有效的降低光路损耗；
	
	
	采用高精度的CMOS元件可精确测定非金属元素如C、P、S、B、As、N以及各种金属元素含量；
	
	测定结果精准，重复性及长期稳定性较佳。
自动光路校准	自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作；
	仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。
插拔式透镜设计	真空光学系统采用*特的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用插拔式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。
真空室一体化	*特的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空时间仅普通光谱仪的1/2；
	真空室一体化设计及高精密的加工，使真空保持的更加持久。
真空防返油技术	多级隔离的真空防返油技术，采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离
	中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，**CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。
开放式激发台	开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析；
	配合使用小样品夹具，线材较低分析可达到1.5mm。
喷射电极技术	采用国际较先进的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度
集成气路模块	气路系统采用气路模块免维护设计，替代电磁阀和流量计，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。
数字化激发光源	数字激发光源，采用国际较为先进的等离子激发光源，**稳定能量释放在氩气环境中激发样品；
	全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体**高分辨率和高稳定率输出；
	可任意调节光源的各项参数，满足各种不同材料的激发要求。
高速数据采集	仪器采用高性能CMOS检测元件，具有每块CMOS单独**高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。
以太数据传输	计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议，避免电磁干扰，光纤老化的弊端，同时计算机和打印机完全外置，方便升级和更换；
	可以远程监控仪器状态，多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。
预制工作曲线	备有不同材质和牌号的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，方便安装调试和及时投入生产；
	根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动选择较优测试条件；
	技术规格中附有分析范围（并可根据用户提供标样免费绘制或延长工作曲线）。
分析速度快	分析速度快，仅需20秒即可完成一次分析；
	针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用较短时间达到较优的分析效果。
多基体分析	光路设计采用罗兰圆结构，检测器上下交替排列，保证接收全部的谱线，不增加硬件设施，即可实现多基体分析；

技术参数
应用领域	冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。
可检测基体	铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。
光学系统	帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围	140~680nm
光栅焦距	401mm
探 测 器	高性能CMOS阵列/CCD阵列传感器
光源类型	数字光源，高能预燃技术（HEPS）
放电频率	100-1000Hz
放电电流	较大500A
工作电源	AC220V 50/60Hz 1000W
仪器尺寸	780*565*360mm
仪器重量	约78kg
检测时间	依据样品类型而定，一般20S左右
电极类型	钨材喷射电极
分析间隙	4mm
其他功能	真空，温度，软件自动控制压力，通讯监测

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